Резидент технопарка «Полюс» представил инновационную установку плазменной обработки материалов. Об этом во вторник, 5 апреля, сообщили на официальном сайте мэра Москвы.
— Удалять загрязнения, модифицировать или активировать (повышать химическую активность) поверхности высокотехнологичных изделий, не повреждая их, — такие задачи призвана решать разработка резидента технопарка «Полюс», — говорится в сообщении.
Установка представляет собой рабочую камеру, внутри которой находится два электрода. В камере создается среда разреженного газа и между ними под напряжением формируется плазма. Под воздействием плазмы состояние поверхностного слоя изделий меняется, не нарушая сами свойства материалов.
Суть процесса заключается в следующем: в плазме генерируются ионы (заряженные частицы) инертного газа (аргона) или химически активного газа (кислорода), которые взаимодействуют с атомами поверхностного слоя изделия. Ионы плазмы могут иметь разную концентрацию и энергию. Благодаря этому свойству, они способны по-разному воздействовать на обрабатываемую поверхность.
Новое оборудование может использоваться во многих высокотехнологичных областях, включая фотонику, биомедицину, плазмонику и другие, где требуется предварительная обработка изделия, передает сайт мэра Москвы.
4 апреля резидент технополиса «Москва» создал устройство для тестирования электроники.
Свежие комментарии